栃木県小山市–(BUSINESS WIRE)–（ビジネスワイヤ） — 半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社：栃木県小山市、代表取締役社長：榎波龍雄、以下「当社」）は、内閣府が所管する「ムーンショット型研究開発制度」の目標10において開発を進めているPLD（Pulsed Laser Deposition：パルスレーザ成膜）用KrFエキシマレーザ「L300KZ」を、2026年9月25日に国内高温超伝導線材メーカーへ設置し、高温超伝導線材の製造プロセスへの適用に向けた評価を開始しました。 当社は、ムーンショット目標10の研究開発プロジェクト「多様な革新的炉概念を実現する超伝導基盤技術」(グラント番号：JPMJMS24A2)の参画機関のひとつです。核融合炉に用いられる超伝導マグネットの重要な構成材料である高性能REBCO線材の高品質・低価格な量産技術の確立に向け、PLDに用いられるエキシマレーザの開発を担当しています。今回設置したL300KZは、半導体露光用エキシマレーザで培った技術を活用して開発した、高温超伝導材料の成膜プロセスに用いられるPLD技術向けの